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平面研磨的运动轨迹及原
平面研磨的运动轨迹及原
XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验
2017年9月7日 摘要: 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题，开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究。 建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型，仿真分析了初始向径、初 推导了单颗磨粒相对工件的运动方程，并利用Matlab软件进行了单颗磨粒运动轨迹仿真，研究了磨粒运动轨迹形态的影响因素，定义了平面研磨轨迹均匀性的概念，建立了磨粒分布、被选考察 UNIPOL802平面研磨机研磨轨迹的研究针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径,初始相位角,转速比,XY联动轨 XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 百度学术2018年6月1日 摘要:针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高、研磨抛光均匀性不足的问题ꎬ引入了无理转速比概念ꎬ以进一步提升研 磨加工均匀性ꎮ建立了定偏心主驱动式和直线 研磨驱动方式和转速比对磨粒运动轨迹的影响研究∗
摆动固定磨料平面研磨的运动学和轨迹分析：摆动方式对研磨
2023年12月24日 为了提高摆动固定磨料平面研磨(SFAPL)的表面精度，本文研究了工件摆动方式对研磨均匀性的影响。 根据曲柄摇杆机构的运动学原理，采用坐标变换方法建立了SFAPL的 2023年12月8日 为了在自由磨料研磨过程中实现 MPCVD（微波等离子化学气相沉积）多晶金刚石晶片的卓越表面形状精度，本研究采用了基于旋转摆动驱动的平面研磨。 这项研究的关键 基于回转摆动驱动的平面研磨磨粒轨迹仿真与实验研究 2018年5月12日 摘要: 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律，建立运动轨迹模型，用轨迹非均匀性定量方法进行评价。 结果表明：偏摆幅度和偏摆角度对轨 偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究平面研磨的运动模型 对研磨中作用物体即研磨盘与工件运动作了系统分析,阐明了工件上点的研磨运动轨迹类型,给出了相对运动速度,轨迹长度计算式,评价了工件位置参数,机床参数对研磨运动 平面研磨的运动模型 百度学术
UNIPOL802平面研磨机研磨轨迹的研究 百度学术
推导了单颗磨粒相对工件的运动方程,并利用Matlab软件进行了单颗磨粒运动轨迹仿真,研究了磨粒运动轨迹形态的影响因素,定义了平面研磨轨迹均匀性的概念,建立了磨粒分布,被选考察区域等 2023年10月16日 摘要:针对传统平面研磨方法中，工件中心研磨轨迹重复率高，研磨速度径向分布不均的缺点，基于 固着磨料研磨技术提出一种变位自转式双平面研磨加工方法。变位自转式双平面研磨方法仿真研究及加工实验本文以国内广泛使用的45号钢切片为试验试件,以UNIPOL802平面研磨机为试验平台,运用计算机模拟仿真分析和试验验证的方法,从磨粒运动轨迹的角度着手,重点研究了平面研磨加工时工件转速及加工表面质量的影响因素,主要内容如下: 对平面研磨技术基础概念UNIPOL802平面研磨机研磨轨迹的研究 百度学术摘要： 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题,开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型,仿真分析了初始向径,初始相位角,转速比,XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律;在自主研发的样机平台上开展了研磨实验研究对试件研磨表面 XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验 百度学术
XY平面联动的平面研磨轨迹分析与研磨实验
2017年9月7日 摘要: 针对传统研磨方法的研磨轨迹覆盖均匀性等问题，开展了XY联动的平面研磨轨迹仿真与实验研究。 建立了该XY联动的平面研磨轨迹运动模型，仿真分析了初始向径、初始相位角、转速比、XY联动轨迹等参数对研磨轨迹的影响规律；在自主研发的样机平台上开展了研磨 平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化Speed）、外齿圈转速Speed）、上／下研磨盘转速翻P（Upper／PlateSpeed）。 修盘器运动速度包括：围绕中心齿轮的公转、修盘器相对自身中心的自转。修盘器 结构如图，它利用修盘器上分布的金刚石磨片，通过 修盘 平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化 百度文库2019年3月17日 机电机械68018年11月0双面研磨运动轨迹模拟与分析郭晓峰范飞戚振华王献伟洛阳金诺机械工程有限公司，河南洛阳摘要：本文建立行星式双面研磨机行星轮运动轨迹的数学模型，利用VB软件对研磨轨迹进行了研究，分析不同研磨盘转速、不同速比下的相对运动轨迹状态及对研磨质量的影响。通过 双面研磨运动轨迹模拟与分析 道客巴巴2015年6月27日 2007年11月 第八届全国摩擦学大会论文集 November 2007 平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化 卢万佳 李维民 杨华 （深圳开发磁记录殷份有限公司厂东深圳） 摘要：为提高硬磁盘基片平面研磨的加工品质，本文利用计算机仿真对其研磨盘的修盘工艺进行运动学模拟，通过统计修盘 器磨片相对 平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化 豆丁网
行星式双平面多工件研磨盘设计边培莹 百度文库
4） “8 ” 字形研磨 运动轨迹。适用于小平面工件的研磨和平板类工件的修 整， 能使相互研磨的平面介质均匀接触 ， 并使研具均匀地 磨损。 1． 1 行星式研磨原理及轨迹 平面双面研磨运动机构最常见的是行星式机构 ， 如图 1 所示， ， 被加工件放在行星轮孔内2018年5月12日 摘要: 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律，建立运动轨迹模型，用轨迹非均匀性定量方法进行评价。 结果表明：偏摆幅度和偏摆角度对轨迹非均匀性影响显著，而偏摆角速度（取到非特殊值时）对轨迹非均匀性影响很小。偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究2012年8月8日 本文从磨粒相对工件的运动轨迹角度，对平面研磨抛光轨迹研究进行综述，叙述了平面研磨抛光轨迹均匀性的研究方法，重点阐述了单面、双面平面研磨抛光轨迹，其中单面研磨抛光包括双轴式、直线式、轨道式、计算机控制小工具式等形式，从研磨抛光轨迹的平面研磨抛光轨迹研究pdf 豆丁网2018年4月2日 平面研磨的运动轨迹及原平面研磨的运动轨迹及原苏制砂机这两年在矿山市场中一路飞跃，发展火爆程度让人瞠目结舌，黎明制砂机用自己过硬的技术一步一步向前进。 Crusher often serves as commonly used equipment on large construction site, use pair of 平面研磨的运动轨迹及原
基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析 道客巴巴
2015年1月13日 第38卷第6期机械工程学报v。1．38No6基于行星式平面研磨机研抛过程的运动几何学分析吴宏基曹利新刘健大连理工大学机械工程学院大连11604摘要：分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理，以节点、节圆入手，将复杂的研抛运动转化为在定中心距条件下的两个绕定轴的回转运动，分析了 2020年4月29日 以上便是球磨机工作原理、球磨机机内运动及研磨体的运动轨迹 介绍，想必大家通过内容介绍，对球磨机也有了一定的了解。在选矿厂中，球磨机设备的投资占比相当大，且能耗、功耗也是整个选厂中较为突出的，因此小编建议在了解球磨机的 球磨机的工作原理及机内运动轨迹分析 知乎行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理。 从节点、节圆入手,将复杂的研抛运动化为在定中心距条件下工作与研磨盘相对于假想系杆的两相绕定轴的回转运动,根据其速比的取值不同,将行星式平面研抛运动归结为3种类型;分析了其轨迹曲线类 行星式平面研磨机研抛过程运动轨迹分析 百度文库2018年6月1日 研磨过程中磨粒轨迹分布方面的研究ꎮ杨昌明等[11] 研究了行星齿轮和太阳轮的转速与磨粒运动轨迹以及 研磨平面质量的关系ꎻ赵文宏等[12]研究了定偏心与不 定偏心研磨方式对平面研磨均匀性的影响ꎬ讨论了研研磨驱动方式和转速比对磨粒运动轨迹的影响研究∗
UNIPOL802平面研磨机研磨轨迹的研究
本文以国内广泛使用的45号钢切片为试验试件，以UNIPOL802平面研磨机为试验平台，运用计算机模拟仿真分析和试验验证的方法，从磨粒运动轨迹的角度着手，重点研究了平面研磨加工时工件转速及加工表面质量的影响因素，主要内容如下: 对平面研磨第1章绪论1 11引言1 12研磨加工技术2 121研磨技术的新发展3 122固着磨料高速研磨技术6 13平面研磨方法8 131双轴式研磨方法8 132直线式研磨方法10 133计算机控制小工具研磨方法11 134平面研磨均匀性13 135平面研磨方法总结14 第2章单平面研磨机理研究16 21单平面研磨加工原理16 22研磨轨迹曲线18 23工件与研磨 平面研磨加工机理研究——刘清 著机械工业出版社研磨，汉语词汇。拼音：yán mó 研磨利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒，通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行的精整加工（如切削加工）。研磨可用于加工各种金属和非金属材料，加工的表面形状有平面，内、外圆柱面和圆锥面，凸、凹球面，螺纹，齿面及其他形面。 研磨百度百科2013年6月12日 手工研磨平面的运动轨迹形式，常用的有螺旋线式和8字形式以及直线往复式。直线往复式研磨运动轨迹比较简单，但不能使工件表面上的加工纹路互相交错，因而难以使工件表面获得较好的表面粗糙度，但可获得较高的几何精度，适用于阶台和狭长平面工件的研磨的运动轨迹、速度与压力 豆丁网
平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化 道客巴巴
2012年7月30日 2007年11月第八届全国摩擦学大会论文集November2007平面研磨中修盘工艺磨削轨迹分析及优化卢万佳李维民杨华（深圳开发磁记录殷份有限公司厂东深圳）摘要：为提高硬磁盘基片平面研磨的加工品质，本文利用计算机仿真对其研磨盘的修盘工艺进行运动学模拟，通过统计修盘器磨片相对研磨盘所划 2023年10月16日 自转式双平面研磨方法，从研磨原理上克服了以上 缺陷，并依此原理研制了新型固着磨料数控双平面 研磨机床。1 变位自转双平面研磨方法 变位自转式双平面研磨方法原理如图1 所示。图1 变位自转研磨原理示意图 机构的主运动为上、下研磨盘的旋转运动，研磨变位自转式双平面研磨方法仿真研究及加工实验双面抛光加工运动是自转运动与公转运动的合 成运动 ,图 1 为双面抛光设备的运动简图 ,待加工工 件被放在行星轮中 ,被固定在上抛光盘和下抛光盘 之间 ,在中心轮与外圈齿轮的共同作用下 ,行星轮围 绕中心轮做公转运动 ,同时做自转运动 ,因此 ,工件 在行星轮中的双面抛光运动的数学建模及轨迹优化 百度文库行星式双平面多工件研磨盘设计[5]田业冰，金洙吉，康仁科，等硅片自旋转磨削的运动几何学分析[J]中国机械工程，2005，16(20):1798180211 行星式研磨原理及轨迹平面双面研磨运动机构最常见的是行星式机构，如图1所示，被加工件放在行星轮孔内，行星行星式双平面多工件研磨盘设计 百度文库
双面研磨抛光中抛帧运动轨迹的仿真分析与优化 豆丁网
2023年8月12日 双面研磨抛光中抛帧运动轨迹的仿真分析与优化0影响双面研磨加工质量的因素双表面研磨技术是研磨超光滑表面的最有效方法。近些年,国内外学者选择不同研制方向来进行双面研磨的研究,比如对研磨和抛光过程中化学因素研究本文是工件在双面研磨加工过程中,运动过程、受力状态是影响加工过程 2019年9月2日 《半导体光电017年6月第38卷第3期杨晓京等：平面光学元件研磨抛光磨粒运动轨迹研究DOI：10．16818／j．issnl001—5868．017．03．011平面光学元件研磨抛光磨粒运动轨迹研究杨晓京，李明昆明理工大学机电工程学院，昆明摘要：为提高平面光学元件的加工质量和效率，理解元件与抛光盘之间的相对 平面光学元件研磨抛光磨粒运动轨迹研究 道客巴巴2009年6月4日 工轨迹示意图。从图中研磨轮和工件的相对运动关系 可得出:螺线研磨轮螺线长度方向平行于研磨轮在工 件上的切削轨迹,加工中脱落的磨粒和切屑不易从沟 槽中排出,因此工件表面发生局部破碎现象。放射线 研磨轮的放射线长度方向垂直于砂轮在工件上的切削超精密平面研磨加工参数对精度的影响 X CORE2023年10月27日 图529 Q平面研磨方法 ②狭窄平面的研磨。研磨狭窄平面时，应采用直线运动轨迹，如图530（a）所示，研磨时，要选用一个条形基准块，将工件紧贴基准块的垂直面一起研磨，研磨往复速度和压力与一般平面研磨相近。当接近加工要求时，可不再涂研磨剂。工件研磨加工工艺及评分标准 挂云帆学习网
研磨的作用与研磨 百度文库
研磨的作用与研磨四、模具零件表面的研磨(4)8字形研磨运动轨迹 图94d所示为8字形研磨运动轨迹， 这种运动能使研磨表面保持均匀接触，有利于提高工件的 研磨质量，使研具均匀磨损，适于小 平面工件的研磨和研 磨平板的修整。 3平面的研磨 (1)一般 一、手工研磨运动轨迹的形式 手工研磨的运动轨迹，一般采用直线、摆线、螺旋线和8字形或仿8字形等几种。不论哪一种轨迹的研磨运动，其运动的共同特点是：工件的被加工表面和研具的表面在研磨过程中始终保持相密合的平行运动。研磨方法百度文库2013年10月8日 （3）螺旋形研磨运动轨迹。主要用于圆片形或圆柱形工件端平面研磨，能获得较高的平面度和较小的表面粗糙度。（4）“8”字形研磨运动轨迹。适用于平板类工件的修整和小平面工件的研磨，能使相互研磨的平面介质均匀接触，并且研具均匀地磨损。机械毕业设计（论文）平面双面研磨机构的设计（全套图纸 2014年3月22日 006年6月总第153期 第3期金刚石与磨料磨具工程DiamondAbrasivesEngineeringJune006Serial153 No3文章编号:100685X00603004604定偏心和不定偏心平面研磨均匀性的研究3赵文宏 周兆忠 文东辉 袁巨龙 郑家锦浙江工业大学精密工程研究中心杭州摘 要 对修正环形抛光机定偏心和不定偏心平面研磨进行了运动分析给 定偏心和不定偏心平面研磨均匀性的研究(1) 道客巴巴
第三章平面机构的运动分析 豆丁网
2017年3月16日 第三章平面机构的运动分析(KinematicAnalysis)§31机构运动分析的目的和方法任务：在已知机构尺寸及原动件运动规律的基础上，1、确定构件上某些点的位移（包括运动轨迹）、速度和加速度；2、确定构件的角位移、角速度和角加速度。2019年4月2日 平面研磨运动轨迹可分为手工研磨的运动轨迹和机械研磨的运动轨迹两种。 其中，手工研磨的运动轨迹包括：直线往复式、摆动直线式、螺旋式及“8”字形式等几种形式；机械研磨的运动轨迹包括：外摆线式、内摆线式、直线往复式、正弦曲线式及无规则圆环线（螺旋形）式等 研磨平板压砂平板等研具平面研磨的运动轨迹 百家号2015年7月10日 要正确处理好研磨的运动轨迹是提高研磨质量的重要条件，一般要求：(1)工件相对研具的运动，要尽量保证工件上各点的研磨行程长度相近(2)工件运动轨迹均匀地遍及整个研具表面，以利于研具均匀磨损；(3)运动轨迹的曲率变化要小，以保证工件运动平稳；(4毕业论文—平面研磨机设计（DOC） 豆丁网2019年5月15日 （2）研磨体与筒壁间及研磨体层与层之间的相对滑动极小，具体计算时略去不计； （3） 磨机筒体内物料对研磨体运动的影响略去不计； （4） 研磨体作为一质点，因此最外层回转半径，可以用筒体的有效内径表示。技术 球磨机工作原理及研磨体运动分析物料
平面抛光中磨粒运动轨迹仿真研究 豆丁网
2016年4月29日 平面抛光中磨粒运动轨迹仿真研究!沈晓安浙江工业大学浙西分校浙江衢州"!4###摘要+对修整环形抛光机平面抛光过程进行了运动分析，给出了抛光垫上某一点相对于试件的速度矢平面研磨轨迹的研究百度文库 这种轨迹有如下优点：①量块做平面平 f行运动，运动形式有利于研磨平均，可以获得良好的平面性和平面平行性。 ②运动 方向主要沿长边方向，因此会很平稳，特别是对 20mm 以上量块有平面研磨的运动轨迹及原, 时产600吨反击破碎机器2016年6月28日 随着科技工业的发展，特别是汽车，，电子元器等行业的发展，对其相配套的零件表面粗糙、平面度以及其加工效率要求越来越高，研磨抛光设备变得尤其重要，特别是双面研磨设备，因为它的研磨方法多种多样，拥有相互平行的两个研磨平面，可以同时对两个工件进行有效研磨，极大的增加了 行星式双面研磨的加工原理及重要意义 综合新闻 方达研磨 2011年1月13日 提要：本文在分析国内各种硬质合金刀片平面研磨机的研磨运动及结构特点基础上、介绍作者从生产实际出发，设计出的一种新型偏心运动刀片平面研磨机。该机不仅结构简单、合理，使用耐久、可靠，而且研磨效果好。 一、前言 机械研磨法是目前国内外加工硬质合金刀片上、下平面的一种主要 硬质合金刀片平面研磨机的工艺介绍机床商务网
铝合金平面研磨精度及产生划痕的研究 豆丁网
2016年7月26日 而研磨面的好坏直接影响着产品的质量、性能和成本。本文通过试验分析方法，从不同角度研究产生研磨划痕的原因和影响平面度达不到精度要求的因素。1平面研磨机的工作原理行星式平面研磨运动是最常见的用于平面研磨机构中的方式，如图1所示。2018年6月1日 平面研磨轨迹的研究 百度文库 研磨轨迹大体上可以分为平面研磨轨迹和曲面研磨轨迹两种，本文重点介绍平面研磨轨迹。 在研磨过程中，研具和工件之间的相互关系应该是处于弹性浮动状态，不能受强制的机 2018年6月1日 摘要:针对常规平面研磨过程中磨粒运动轨迹重复性较高、研磨抛光均匀性不足 平面研磨的运动轨迹及原